光刻机工艺的原理及设备

Question

如题所述

Answer 1

1. 测量台和装片曝光台：这些工作台承载着硅片，是光刻机中的关键部分。
2. 激光器：作为光刻机的核心部件之一，激光器负责提供光源。
3. 光束矫正器：它负责校正激光束的入射方向，确保光束尽可能平行。
4. 能量控制器：该控制器调节照射到硅片上的光能量，以保证曝光量的适当性，避免影响成像质量。
5. 光束形状设置：这一功能允许设置光束为圆形、环形等多种形状，每种形状的光束具有不同的光学特性。
6. 遮光器：在不需要曝光时，遮光器用来防止光线照射到硅片上。
7. 能量探测器：能量探测器的作用是检测光束的最终能量是否满足曝光需求，并向能量控制器提供反馈以进行调整。
8. 掩模版：掩模版是一种内部含有电路设计图案的玻璃板，其成本可能高达数十万美元。
9. 掩膜台：这个设备承载着掩模版，其运动控制精度可达到纳米级别。
10. 物镜：物镜用于补偿光学误差，并将线路图案等比例缩小后投影到硅片上。
11. 硅片：硅片是由硅晶体制成的圆形片状物。不同尺寸的硅片对应不同的产量，通常来说，尺寸越大，产率越高。额外说明，由于硅片的圆形特性，需要在硅片上切割一个缺口以确定坐标系。根据缺口形状的不同，硅片分为“flat”和“notch”两种类型。
12. 内部封闭框架和减振器：这些组件将工作台与外部环境隔离开来，保持工作台的水平状态，减少外部振动对光刻过程的干扰，并维持恒定的温度和压力条件。