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光刻机 蚀刻机
什么是
蚀刻机
?
答:
蚀刻机
和
光刻机
其实就是完全不同的两种设备,不论从功能还是结构上来说都是天差地别,光刻机是整个芯片制造过程中最为核心的设备,芯片的制程是由光刻机决定的,而不是蚀刻机。具体如下:1、工作原理 如果把制造芯片比喻成盖房子,那么光刻机的作用就是把房子的结构标注在地上。刻蚀机就是在光刻...
,
光刻机
和刻融机有什么不同
答:
我想你问的是
光刻机
和
蚀刻机
有什么不同?刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉。光刻机是将图形刻到硅片上。光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线,
刻蚀机的
作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。
蚀刻机
、
光刻机
、光栅刻画分别是什么意思?
答:
蚀刻机
可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液,经由化学反应以达到蚀刻的目的,化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
光刻机
(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.一般的...
光刻机
和
刻蚀机的
区别
答:
刻蚀相对光刻要容易。
光刻机
把图案印上去,然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案(或者没有图案)的部分,留下剩余的部分。“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆(或者叫硅片)上盖上事先做好的光刻板,然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。原理就是利用紫外线使部分光刻胶变质,易于腐蚀。...
光刻机
可以刻多少nm?
答:
蚀刻机
达到了5nm水平,
光刻机
仍然是处于90nm水平,2018年时中科院的“超分辨光刻装备研制”通过验收,它的光刻分辨力达到22nm,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10nm级别的芯片。但是这仅限于实验室阶段,实现商用还是需要一定时间。光刻机(lithography)又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,...
边缘湿法
蚀刻
技术突破!点赞中企,高端芯片又近了一步
答:
但是芯片制造不止
光刻机
。在将芯片雕刻之后,还需要后续一系列的处理,芯片才能真正完成。这其中最重要的就算是蚀刻。 光刻机是在晶圆上“作画”,而
蚀刻机
就是按照“画”来腐蚀掉那些多余的地方和杂质,使集成电路形成。 对于芯片制造来说,光刻机和蚀刻机就像一对兄弟一样,一个处理前置,一个处理...
我国半导体基础差,为何还要发展半导体产业?
答:
国产芯片水平只能实现90纳米。从芯片制造环节看,
光刻机
、
蚀刻机
、晶圆、光刻胶等设备和材料占比很大。其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米。高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口,其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此,我国要生产高度国产化的芯片,目前90纳米是一个分界点。这其中还不包含芯片设计...
荷兰解除禁令,向中国出口
光刻机
,他们是怎么想的呢?
答:
欧美国家这次愿意把自己的
光刻机
卖给中国馆的主要原因是老套的原因,就是因为中国有。当中国没有某项技术的时候,欧美国家肯定会想尽办法阻止中国购买或者研发。但是当我们有了这项技术,对方就会解除对我国的一切限制。在同一个芯片行业,第一个拿到欧美提货单的其实不是光刻机,而是
蚀刻机
。这项技术...
国家半导体大基金二期重点投资半导体装备及材料,国产EUV
光刻机
能...
答:
大基金二期的2000多亿元将不仅投资于5G、AI人工智能、物联网等新兴领域,还将聚焦于国产半导体设备及材料的研发,例如
光刻机
、
蚀刻机
、大硅片等关键技术。目前,国产光刻机技术仍落后于先进水平,例如ASML公司的EUV光刻机,其售价高昂且技术门槛极高。国内仅中芯国际购入用于7nm工艺研究的EUV光刻机,显示...
中国买家大量采购二手半导体设备,目前半导体行业发展前景有何困境?_百 ...
答:
2、设备和材料是又一大短板。制造芯片的三大设备
光刻机
、
蚀刻机
和薄膜沉积,国内仅中微半导体的介质蚀刻机能跟上行业节奏,其7纳米设备已入围台积电名单。半导体行业前景在全球芯片短缺下,中国加快布局芯片行业,我国半导体制造商也正纷纷抢购二手芯片制造设备。而在此背景下,日本二级市场半导体价格大涨,有...
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