北大团队造出90nm碳纳米管晶体管,助推碳基芯片的工程化发展,相关氢气传感器产品已经上市

如题所述

北京大学的科研巨头们,由彭练矛院士和张志勇团队领航,已经成功突破技术壁垒,研发出了一款令人瞩目的90nm碳纳米管晶体管。这款创新性器件展现出前所未有的集成能力,其6管SRAM单元面积仅为1μm²,性能超越了硅基45nm标准,证明了碳基半导体材料在高密度电子器件中的潜力。

他们首次实现了非硅材料在小于1μm²的6-T SRAM设计上的突破,这是对90nm技术节点的重大贡献。团队进一步探索了全接触结构,将碳纳米管晶体管CGP的研发推进到55nm,性能超越了硅基的10nm节点,彰显了碳纳米管在高性能数字集成电路领域的强大优势。

张志勇教授作为研发的核心力量,倾力于90nm碳纳米管CMOS芯片工艺的革新。在他的指导下,博士研究生林艳霞经过五年不懈努力,克服了新冠带来的挑战,成功研发出这一里程碑式的碳纳米管晶体管,其成果发表在权威期刊Nature Electronics上。论文中,林艳霞与曹宇副研究员共同署名,彭练矛院士和张志勇作为通讯作者,共同推动了这一科研进展。

值得一提的是,他们的高灵敏度传感器产品已经进入市场,预计在未来的两年内,将广泛应用于食品安全等关键领域。尽管面临着NMOS晶体管氧化问题的挑战,团队的目标是实现6T CMOS静态随机存取存储器的碳管工艺,以推动碳基芯片的工程化进程。

团队正在致力于建立标准化的碳基芯片生产工艺,以加速其工程化应用。当前,碳纳米管芯片正经历工程化的迭代升级,预计将在传感器、射频技术以及高端数字芯片领域崭露头角。他们雄心勃勃,计划在2037年实现7nm的碳基工艺,这一突破将超越传统半导体技术的局限,预示着碳纳米管芯片将深刻改变我们的生活。

尽管未来还有许多挑战等待克服,但北京大学的这一创新成果无疑为碳基芯片的未来开辟了新的可能。让我们共同期待,碳纳米管芯片将在不久的将来,以更加高效、环保的形式,走进我们的日常生活。
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