回购光刻机指的是中国芯片企业要求ASML回购已经购买的700台光刻机。
光刻机，又名掩模对准曝光机、曝光系统等，是制造芯片的核心装备。光刻机采用类似照片冲印的技术，能够把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。ASML是全球领先的半导体设备制造商，其先进的光刻机技术被广泛应用于芯片制造过程中。2018年，美国要求ASML停止向中国出售光刻机，因此中国芯片企业开始发出声音，要求ASML承担损失。
由于美国拥有对ASML的技术掌控和影响力，这一限制措施令ASML不得不停止向中国出售光刻机，并且无法为中国市场提供充分的服务保障。因此，国内企业将按照签订的合同要求ASML回购中国已购的所有光刻机。
光刻机的种类有如下：
1、接触式曝光机
接触式曝光机指的是掩膜板直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当的设备。根据施加力量的方式不同，接触式曝光又分为软接触、硬接触和真空接触。
2、接近式曝光机
接近式曝光机指的是掩膜板与光刻胶基底层保留一个微小的缝隙，缝隙大约为0~200μm。接近式曝光机可以有效避免与光刻胶直接接触而引起的掩膜板损伤，使掩膜和光刻胶基底能耐久使用。接近式曝光机在现代光刻工艺中应用最为广泛。
3、投影式曝光机
投影式曝光机指的是在掩膜板与光刻胶之间使用光学系统聚集光实现曝光，一般掩膜板的尺寸会以需要转移图形的4倍制作。投影式曝光机的优点是提高了分辨率，掩膜板的制作更加容易，掩膜板上的缺陷影响减小。
以上内容参考：百度百科-光刻机
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