光刻技术的加工精度与以下因素有关：
1. 光源波长：光刻机所使用的光源波长越短，光线的分辨率就越高。因此，光刻技术加工精度与光源波长有直接关系。短波长光源如极紫外光（EUV）能够使得光刻机所形成的图案更加精细。
2. 镜头分辨率：光刻机镜头本身的分辨率也会影响光刻技术的加工精度。如果镜头本身的分辨率不够，那么光刻机所形成的图案就会存在一些失真和模糊。
3. 掩膜版设计：在光刻工艺中，掩膜版的设计也会影响图案的精度。掩膜版上的图形越细小，光刻后的图案就越精细。同时，图形之间的间距也会影响图案的精度。
4. 曝光系统：光刻机的曝光系统也会影响加工精度。曝光系统中的光学元件（如反射镜和凹透镜）会影响光线通过光刻机后的形状和位置。这些元件的精度和稳定性都会影响最终图案的精度。
5. 工艺环境：光刻工艺所处的环境也会影响加工精度。例如，温度和湿度的变化都会影响光刻胶和曝光系统的性能，从而影响图案的精度。
总的来说，光刻技术的加工精度受到多种因素的影响，包括光源波长、镜头分辨率、掩膜版设计、曝光系统和工艺环境等。这些因素的综合作用决定了光刻机能够制造出多精细的图案。
随着光源波长的不断缩短和工艺技术的不断进步，光刻技术的加工精度也在不断提高。