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硅片参数介绍
【科普】一文带你了解CMP设备和材料
答:
工艺原理与关键
参数
CMP的核心技术基于化学-机械动态耦合,涉及化学腐蚀去膜和物理机械摩擦的过程。首先,
硅片
被固定,研磨液被添加,随后通过交替的化学去膜和机械去膜步骤,实现晶圆表面的精准平坦化。决定CMP效果的关键技术参数包括研磨速率、平整度、均匀性和缺陷控制,这些参数的微调,如抛光垫的硬度、...
请问:康佳电磁炉
硅片
和晶闸管散热器上的那个热敏电阻的
参数
是多少?
答:
100K 3950
请问半导体性能
参数
分散性较大是什么意思?谢谢!
答:
一致性和分散性是对器件的性能
参数
的改变量而言的 分散性大就是说同一批器件参数差异较大 一致性好就是说差异较少
华泰
硅片
插片机怎么调插片速度?
答:
华泰
硅片
插片机的插片速度调节是一个相对简单的操作,但需要根据具体情况进行调整。如果您对速度调节操作感到困惑,建议查阅华泰硅片插片机的操作手册或咨询相关专业人士的意见和建议。除了调整插片速度,华泰硅片插片机还有其他一些重要的调节
参数
,如插片深度、插片角度等。在使用插片机的过程中,对这些...
各种基本电子元器件的详细
介绍
答:
常用电子元器件
介绍
一、电阻 电阻在电路中用“R”加数字表示,如:R15表示编号为15的电阻。电阻在电路中的主要作用为分流、限流、分压、偏置、滤波(与电容器组合使用)和阻抗匹配等。 1、
参数
识别:电阻的单位为欧姆(Ω),倍率单位有:千欧(KΩ),兆欧(MΩ)等。换算方法是:1兆欧=1000千欧=1000000欧电阻的参数...
安集科技的
硅片
抛光液如何提高硅片的平整度和光洁度?
答:
2. 采用更硬性的抛光微粒材质,如金刚石微粒,可以更有效地磨削
硅片
表面。3. 调节抛光液的pH值,达到对硅片材料最佳的抛光反应效果。4. 添加适量的腐蚀剂,可以化学腐蚀etching硅片表面,获得更平坦的表面。5. 优化抛光液的稳定剂、消泡剂等添加剂,提高抛光液性能。6. 严格控制抛光工艺
参数
,如转速、压力、...
太阳能
硅片
有什么作用?
答:
其中:①定边喂膜法, 是用刻有狭缝的石墨模具浸人硅熔液,靠毛细现象,硅 液沿狭缝上升,用籽晶
硅片
把硅液沿狭缝冷凝后向上 拉伸,即得到等宽等厚的带硅;②跳状枝晶法,是用两 根细籽晶平行伸入硅熔液,靠表面张力,硅液在籽晶之 间形成一个蹼状弯月面状的硅膜,把籽晶向上提伸.这 种蹼...
切片机的技术
参数
答:
1、动力系统:HTC的平均线速只有8.4米/秒,远低于NTC的10.5-11米/秒,更低于MB的13米/秒。这种要求直接导致了安永机器必须用相当低粘度的切割液,切割液本身的粘度低至不到20,砂浆粘度不超过150,大大限制了机器的砂浆流量,降低了切割效率。尤其是这种
硅片
切割液在国内很少有,即便有也不一定好用...
Oppo Reno6
参数
详解:内存容量、屏幕、摄像头等配置全解析
答:
1. 外观 oppo reno6采用了6.4英寸的AMOLED显示屏,分辨率为2400 x 1080像素,屏幕刷新率为90Hz. 另外,它配有一枚1600万像素荣耀
硅片
AI自拍镜头,可帮助你轻松自拍。此外,oppo reno6使用了5nm工艺的芯片,拥有极高的性能和低功耗的特点。2. 内存 oppo reno6搭载8GB内存和128GB/256GB的UFS 3.1...
硅片
多线切割用的钢线是什么材料
答:
硅片
多线切割上有的钢丝一般为 82钢或者92钢。 其切割原料不是做为电极丝,进做为切割过程中,切割材料(SiC)载体, 目前此钢种做的最好的是日本的神户制钢,另外 日本的新日铁也能凑合用。还有日本的东京制钢、德国撒斯特。 国内的基本不可用。 主要有 宝钢、青钢、兴澄、武钢、...
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