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硅片参数介绍
光刻分辨率
答:
光刻分辨率是指将
硅片
上两个邻近的特征图形区分开来的能力。光刻中的一个重要的性能指标指的是每个图形的分辨率。在先进的半导体集成电路制造中,为获得高集成度器件分辨率很关键。光刻分辨率对任何光学系统都是一个重要的
参数
,并且对光刻很关键,因为需要在硅片上制造出极小的器件尺寸。硅片上形成图形的实际...
什么是外延片?
答:
在进行外延沉积之前一般都需要H2烘烤(bake)这一步,其目的在于原位(in-situ)去除
硅片
表面的自然氧化层和其他杂质,为后续的外延沉积准备出洁净的硅表面状态。最后在外延工艺完成以后需要对性能指标进行评估,简单的性能指标包括外延层厚度和电特性
参数
, 片内厚度及电特性均匀度(uniformity),片与片间的重复...
硅片
清洗技术手册(材料科学和工艺技术)
答:
太阳能
硅片
表面等离子体清洗工艺 硅片表面残留颗粒的等离子体清洗方法,它包括以下步骤:首先进行气体冲洗流程,然后进行该气体等离子体启辉。 去除硅片表面颗粒的等离子体清洗方法过程控制容易,清洗彻底,无反应物残留,所霈工艺气体无毒,成本低,劳动量小,工作效率高。等离子硅片清洗条件
参数
:1、硅片表面...
半导体单晶
硅片
翘曲度都和哪些因素有关?
答:
4. 外部应力:外部应力如机械力、压力或附加材料的应力等也可能导致
硅片
的翘曲。这些应力可能来自于制造过程中的机械处理或封装过程中的应力释放。5. 制造工艺:硅片的制造过程中的工艺步骤和
参数
也会对翘曲度产生影响。例如,晶圆的切割、薄化、腐蚀、退火等步骤都可能对硅片的翘曲度造成影响。
光伏切片配方线量怎么计算
答:
1、确定光伏切片的原材料
硅片
的质量,这可以通过硅片的纯度、厚度等
参数
来衡量。质量较高的硅片可以生产出更高效率的光伏切片。2、需要考虑生产工艺对光伏切片质量的影响。这包括切割速度、切割压力、切割液等参数。合理的生产工艺可以提高光伏切片的转换效率,降低线量损失。3、根据以上两个因素,可以确定...
问一问广大发烧友,这个散热
硅片
可信吗?只要6块钱。125w/mk(看下面
参数
...
答:
导热系数有点虚高了和价格不成正比,不过也就6块钱,又不是花不起 愿意买就买呗,望采纳
me9435是什么?
答:
2-增益高(可达60~180dB),输入电阻大(几十千欧至百万兆欧),输出电阻低(几十欧),共模抑制比高(60~170dB),失调与飘移小,而且还具有输入电压为零时输出电压亦为零的特点,适用于正,负两种极性信号的输入和输出。3、模拟集成电路一般是由一块厚约0.2~0.25mm的P型
硅片
制成,这种硅片是...
原
硅片
电阻率低会影响电性能哪些?
答:
电阻率本身就是材料的电性能之一。如果
硅片
电阻率降低,还表征:1-材料的“载流子密度”增大;2-材料的“载流子迁移率”减小;3-材料的“载流子扩散系数”减小;4-材料的“少数载流子扩散长度”减小;5-材料的导热系数增大。(但材料电阻率不是影响以上性能
参数
的唯一因数)假如用这硅片来做二极管:1-会...
进行
硅片
测试的原因
答:
3. 电学性能测试:
硅片
在半导体器件中的电学性能至关重要。电学性能测试可以包括测量硅片的电阻、电容、漏电流等
参数
,以评估其性能和可靠性。4. 光学性能测试:硅片在光电子器件中也扮演重要角色。光学性能测试可以包括测量硅片的透明度、折射率、反射率等参数,以评估其光学特性和适用性。5. 表面质量检查...
【科普】一文带你了解CMP设备和材料
答:
工艺原理与关键
参数
CMP的核心技术基于化学-机械动态耦合,涉及化学腐蚀去膜和物理机械摩擦的过程。首先,
硅片
被固定,研磨液被添加,随后通过交替的化学去膜和机械去膜步骤,实现晶圆表面的精准平坦化。决定CMP效果的关键技术参数包括研磨速率、平整度、均匀性和缺陷控制,这些参数的微调,如抛光垫的硬度、...
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