CINNO Research产业资讯，经确认，三星SDI已着手开发半导体光刻胶（PR）。据分析，此举一方面为了打破日本厂商的垄断实现光刻胶的韩国国产化，另外从公司角度看，也可摆脱电子材料事业部的单一销售结构，实现销售多元化。
据韩媒Sedaily6月20日消息，三星SDI电子材料事业部最近向研究所入库了用于开发PR的8英寸晶圆曝光及履带设备。据悉，在三星SDI电子材料开发室室长金相均的带领下，还进行了PR研究部门的重整及力量强化。公司还通过公开招聘，聘请了利用光刻胶的的半导体曝光领域的专家。
三星SDI开发半导体光刻胶的举措将对韩国半导体材料国产化产生重大的影响。作为半导体工艺中必不可少的物质，光刻胶一直被日本厂商所垄断。光刻胶也是2019年日本政府对韩国出口管制时，被指定为出口限制清单之一。
当时，日本仅限制出口尖端工艺用材料—极紫外线(EUV)光刻胶。但通用的ArF、KrF光刻胶却被日本材料厂商独食。比如，用于制造CMOS图像传感器的KrF光刻胶，日本富士公司占据大部分市场份额，技术领先。
自日本出口管制事件以来，日本TOK、美国杜邦等厂商为了实现光刻胶本地化生产，一直有推动供应链重塑的行动。在韩国，东晋世美肯、SK Materials等制造光刻胶的企业也有开发各工艺别光刻胶的本土化动作。但很多人指出，韩国要跃升为半导体核心材料的枢纽，需要投入更大的资本和人力。
对此，有业内人士分析，拥有丰富资本和高级材料研究人才的三星SDI正式进入该领域，如果能量产任何形式的光刻胶，对培育韩国半导体核心材料研究基础都将大有益处。
另外，主要需求方三星电子为了材料供应链多样化和材料垂直系列化，也很有可能与三星SDI积极合作。光刻胶产品实现商业化后，对三星SDI电子材料事业部销售多样化也有积极作用。
此前，业内人士指出，三星SDI电子材料事业部在半导体材料领域对SOH（Spin on Hardmask)、Slurry等主要产品的销售依赖度较高，需要改善。对此，三星SDI电子材料事业部不仅选择了光刻胶，还选定了七大课题，力求实现销售多样化。
三星SDI的一位相关人士表示：“向研究所引进新设备是没错的，但目前尚未确定将开发哪些产品并将其商业化。”
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