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华为光刻胶最新消息
中国
光刻
机什么时候出来
答:
光刻机的工作原理类似于照片冲印技术。在制作好的硅圆晶表面涂上一层
光刻胶
后,通过紫外线或深紫外线透过掩膜版,将精细图形印制到硅片上。曝光过程中,被光线照射的部分会被腐蚀掉,未被照射的部分则保留下来,形成电路结构。因此,曝光系统是光刻机的核心之一。国望光学在研发过程中,成功开发出90nm...
中科院研发成功2nm
光刻
机
答:
光刻机的工作原理类似于照片冲印技术。在制作好的硅圆晶表面涂上一层
光刻胶
后,通过紫外线或深紫外线透过掩膜版,将精细图形印制到硅片上。曝光过程中,被光线照射的部分会被腐蚀掉,未被照射的部分则保留下来,形成电路结构。因此,曝光系统是光刻机的核心之一。国望光学在研发过程中,成功开发出90nm...
中科院
光刻
机研制成功了吗
答:
光刻机的工作原理类似于照片冲印技术。在制作好的硅圆晶表面涂上一层
光刻胶
后,通过紫外线或深紫外线透过掩膜版,将精细图形印制到硅片上。曝光过程中,被光线照射的部分会被腐蚀掉,未被照射的部分则保留下来,形成电路结构。因此,曝光系统是光刻机的核心之一。国望光学在研发过程中,成功开发出90nm...
中国国产芯片能达到多少纳米?
答:
中国国产芯片能达到90纳米。国产芯片水平只能实现90纳米。从芯片制造环节看,光刻机、蚀刻机、晶圆、
光刻胶
等设备和材料占比很大。其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米。高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口,其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此,我国要生产高度国产化的芯片,目前90纳米是一个分界...
中国芯片水平如何?
答:
中国国产芯片能达到90纳米。国产芯片水平只能实现90纳米。从芯片制造环节看,光刻机、蚀刻机、晶圆、
光刻胶
等设备和材料占比很大。其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米。高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口,其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此,我国要生产高度国产化的芯片,目前90纳米是一个分界...
中国芯片什么水平
答:
中国国产芯片能达到90纳米。国产芯片水平只能实现90纳米。从芯片制造环节看,光刻机、蚀刻机、晶圆、
光刻胶
等设备和材料占比很大。其中光刻机设备,目前上海微电子是90纳米。高端的KrF和ArF光刻胶更是几乎依赖进口,其中ArF光刻胶几乎为零国产。因此,我国要生产高度国产化的芯片,目前90纳米是一个分界...
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